化学方法以及化学液的定量分析方法
发布日期:2020-03-04
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技术领域
本发明涉及金属化学方法,更详细说,涉及在半导体器件基板或 液晶元件基板等的基板制造工序等中,为了对金属(层)形成微细电 极或金属配线而使用感光性树脂等的微细化学工序中适用的化学方 法。此外,本发明涉及上述化学液的定量分析方法以及从上述化学液 中回收磷酸的方法。
背景技术
近年来,在半导体器件基板或液晶元件基板上对随附在这些器 件•元件上的配线或电极等的微小化、高性能化的要求变得更加严格。
对于这样的要求,取代传统使用的CrMo等铬(Cr)合金配线材 料,讨论适于微细化学加工的、能承受设备电气需要增加的低电阻材 料。例如,现在,提出由铝(A1)、银、铜等形成的新材料作为配线材 料使用,也讨论由这样的新材料产生的微细加工。而且,在这些新材 料的化学中通常使用含有硝酸、磷酸以及醋酸的化学液。
在使用铝作为被化学金属时,为了使铝离子化而除去,有必要使 之从0价到3价,与银(1价)或铜(2价)相比,蚀刻液中酸的耗费 量大,由于急剧地产生化学速度的降低,所以存在所谓化学速度控制 难的问题。因此,在浸渍法等的成批处理过程中,一旦化学液的化学 速度低于特定值,则即使化学液残留大部分的化学能力,通常也全量 废弃,替换新的化学液,存在所谓化学液的使用量及废弃量多的问题。
本发明涉及金属化学方法,更详细说,涉及在半导体器件基板或 液晶元件基板等的基板制造工序等中,为了对金属(层)形成微细电 极或金属配线而使用感光性树脂等的微细化学工序中适用的化学方 法。此外,本发明涉及上述化学液的定量分析方法以及从上述化学液 中回收磷酸的方法。
背景技术
近年来,在半导体器件基板或液晶元件基板上对随附在这些器 件•元件上的配线或电极等的微小化、高性能化的要求变得更加严格。
对于这样的要求,取代传统使用的CrMo等铬(Cr)合金配线材 料,讨论适于微细化学加工的、能承受设备电气需要增加的低电阻材 料。例如,现在,提出由铝(A1)、银、铜等形成的新材料作为配线材 料使用,也讨论由这样的新材料产生的微细加工。而且,在这些新材 料的化学中通常使用含有硝酸、磷酸以及醋酸的化学液。
在使用铝作为被化学金属时,为了使铝离子化而除去,有必要使 之从0价到3价,与银(1价)或铜(2价)相比,蚀刻液中酸的耗费 量大,由于急剧地产生化学速度的降低,所以存在所谓化学速度控制 难的问题。因此,在浸渍法等的成批处理过程中,一旦化学液的化学 速度低于特定值,则即使化学液残留大部分的化学能力,通常也全量 废弃,替换新的化学液,存在所谓化学液的使用量及废弃量多的问题。



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